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안녕하세요 여러분! 오늘은 반도체 산업을 위한 혁신적인 필터 솔루션의 선도적 공급업체이자 조용한 기여자인 코베터를 소개합니다. 첨단 반도체 제조 세계에서 '초고순도'는 선택 사항이 아닌 필수 요소입니다. 코베터는 이러한 초고순도 환경을 위한 핵심 여과 기술을 개발 및 공급하여 반도체 생산의 효율성과 수율 향상에 기여하고 있습니다.

코베터의 핵심 기술은 어디에서 빛을 발할까요?

코베터는 반도체 제조의 다양한 핵심 공정 단계에 걸쳐 독보적인 필터 솔루션을 제공합니다:

1. 습식 공정: 혁신적인 멤브레인 기술로 초고순도 달성

웨이퍼 세정 시 습식 공정은 극도로 높은 순도를 요구합니다. 코베터의 혁신적인 멤브레인 기술은 이러한 엄격한 요구사항을 충족시켜 최적의 세정 환경을 제공합니다.

2. 리소그래피 공정: 1nm 미만 필터로 금속 오염물질 제거

리소그래피(Litho) 공정은 회로 패턴 형성을 위한 고정밀 공정입니다. 코베터의 필터는 1nm 미만의 미세 오염물까지 효과적으로 제거하여 금속 불순물로 인한 결함을 최소화하고 다양한 매니폴드와의 호환성을 보장합니다.

3. CMP 공정: 맞춤형 멤브레인 구조 및 신속한 설치

화학적 기계적 연마(CMP) 공정에서 슬러리 내 입자 제어는 매우 중요합니다. 코베터는 최적의 여과 성능을 위한 맞춤형 멤브레인 구조를 제공하며, 신속한 설치를 통해 생산 효율성 향상을 지원합니다.

4. AMC 공정: 다양한 막 소재 및 맞춤형 서비스

공기 중 분자 오염(AMC) 제어는 클린룸 환경 유지에 필수적입니다. 코베터는 다양한 막 소재를 활용하고 맞춤형 서비스를 제공하여 RC(저항성 오염물질) 및 VOC(휘발성 유기 화합물)와 같은 유해 오염물질을 효과적으로 제거합니다.

5. 가스 공정: 9N+ 순도 달성하는 첨단 정제 기술

반도체 공정에 사용되는 가스는 극히 높은 순도를 요구합니다. 코베터는 자체 개발한 1.5nm 완전 시리즈 멤브레인과 첨단 가스 정제 기술을 활용하여 반도체 생산 안정성을 극대화하며, 9N+ 이상의 초고순도를 달성합니다.